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课程培训
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上海韦玏微电子encounter培训
SOC Encounter 6.1培训 ENCOUNTER平台 Encounter平台是基于90纳米及其以下工艺，针对复杂、低功耗设计的，从RTL到GDSII 的完整设计环境。它囊括了纳米级数字设计的一整套技术，包括：综合、测试、形式验 证、物理原型、信号完整性分析和时序、布局、设计约束管理、高良品率优化、功耗优 化等等。Encounter平台提供了一个完整的设计流程：从RTL综合及面向测试的设计，通 过物理原型和层次分割，到最终的时序及制造收敛，等等。它提供最好的硅片质量（时 序、面积、及线路功耗）、精确验证、SI监控布线、及最新的对高级65纳米设计非常关 键的高良品率及低功耗设计能力。Encounter平台可以提高您的生产力、简化设计复杂 度、并缩短产品的上市时间。
此次课程针对最新版的Encounter 6.1的技术特点及应用进行讲解，通过学习及上机练习，您将运用Encounter 6.1学习： － 运用虚拟原型技术进行设计布局规划 － 自动布局 － 扫描链重组 － 运用试布线技术在设计早期阶段估计芯片拥塞 － 寄生参数抽取及延时计算 － 时钟树综合 － 设计层次化划分及布局规划 － 设计物理层次化划分及时序规划 － 功耗分析，电源网络分布及电源分析 － 时序优化和收敛
培训对象： 有0－1年设计经验的数字IC设计工程师 预修知识： 1． UNIX基础 2． VERILOG HDL语言 3． CMOS集成电路设计基础 4． TCL语言
课程内容： 第一部分 * 综述 * RTL综合 * 设计布局规划 * 电源网络规划 自动布局 * 扫描链优化及重组 * 试布线分析 第二部分 * 寄生参数抽取及时序分析 * 时序优化及收敛 * 时钟树综合 * 电源网络及特殊互连布线 * 设计层次化划分 * 电源分析
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