TCAD工艺仿真：Silvaco TCAD器件建模培训课程
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培训对象： 半导体工艺工程师、器件建模工程师、IC设计人员（需理解工艺影响）、TCAD仿真工程师。
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培训目标：
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培训内容介绍：
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一、TCAD仿真概述： 了解TCAD在工艺开发和器件设计中的作用，掌握工艺仿真与器件仿真的关系。
二、Silvaco TCAD工具套件： 熟悉Victory Process、Athena（工艺仿真）、Victory Device、Atlas（器件仿真）等工具。
三、工艺仿真（Process）基础： 编写工艺仿真输入文件（deck），定义衬底、注入、扩散、氧化、刻蚀等工艺步骤。
四、离子注入模拟： 设置注入参数（剂量、能量、种类），模拟杂质分布，分析退火对分布的影响。
五、热氧化与扩散模拟： 模拟热氧化过程生成氧化层，模拟高温退火下的杂质再分布。
六、刻蚀与沉积模拟： 模拟刻蚀工艺定义结构图形，模拟薄膜沉积形成隔离层和金属层。
七、器件仿真（Device）基础： 从工艺仿真结果或直接定义结构开始，设置电极、掺杂分布、材料属性。
八、物理模型选择： 选择合适的物理模型（迁移率模型、复合模型、碰撞电离模型），设置模型参数。
九、电学特性仿真： 进行直流分析（I-V曲线）、瞬态分析（开关特性）、交流分析（C-V曲线）。
十、参数提取： 从仿真结果提取SPICE模型参数（阈值电压、饱和电流、沟道电导）。
十一、工艺优化分析： 研究注入剂量、热预算、栅氧化层厚度等工艺参数对器件性能的影响。
十二、实战项目：MOSFET工艺与器件仿真： 完成从工艺步骤定义、器件结构形成到电学特性提取的全流程。
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